1、電子半導體廢（fèi）水的種類（lèi）

由於半導體公司的產品不同，各公司生產過程中產生的廢（fèi）水種類都（dōu）不一（yī）樣，各（gè）公司對產生的廢（fèi）水來源不一（yī）樣所進行的分類也不一樣。總的來水，半導體行業的廢水可（kě）以分為含氟廢水、含磷廢水（shuǐ）、有（yǒu）機廢水、研磨廢水、氨氮廢水和酸堿廢（fèi）水。如無錫華潤上華沒有含磷廢（fèi）水，上海天馬沒（méi）有研磨廢水。

2、電子（zǐ）半導體廢水的來源

含氟廢水主要（yào）來源於來自於自芯片製造過程中的擴散工序及化學機械研磨工序，在對矽片及相關器皿的清洗過程中也多次用到氫氟酸。對粘膜、上呼吸道、眼睛、皮膚（fū）組織有極強的破壞作用。汙染物主要為氟離（lí）子。含磷廢水主要來源於生產工程中的鋁刻蝕液。有機廢水，由於（yú）生產工藝的不同，有機溶劑的使用量對於半導體行業而言具有很大的差距（jù）。但是作為清洗劑，有機溶劑仍然普遍使用在製造封裝（zhuāng）的各個環節上。部分溶劑（jì）則成為有機廢水排放。有機廢水主要來源於IPA溶劑、顯影液、TO刻蝕液、酸洗塔酸堿廢水、酸洗塔有機廢水。